El 20% de los sorteados no aceptan ser funcionarios de casilla

Culiacán,
Sin.- El problema de resistencia de los ciudadanos que
resultaron seleccionados para ser funcionarios casilla para las próximas
elecciones, es considerable, más del 20 por ciento se niega a participar en
este proceso, aseguró el Presidente del Consejo Local del INE en Sinaloa,
Miguel Ángel Ochoa Aldana.Comentó que los ciudadanos buscan
cualquier pretexto para evitar la capacitación, lo que complica el trabajo de
los funcionarios del INE, pero a pesar de esto las elecciones del 7 de junio
están garantizadas.?Muchos ciudadanos anteponen pretextos
para no ser funcionarios, de que tengo trabajo, miles de pretextos, el trabajo
del capacitador y del supervisor es hacerle ver el compromiso que como
ciudadanos tenemos, se ha logrado en anteriores procesos y se va a lograr en
este proceso también?, afirmó.Ochoa Aldana dio a conocer que este
problema ha ocasionado que algunos capacitadores electorales renuncien, al
grado que en los distritos 5 y el 6 se tuvo que lanzar una nueva convocatoria
para contratar a más personas que cumplan con la función de reclutar a los
funcionarios de casilla.Así mismo agregó que los lugares donde
se percibe más resistencia por parte de los ciudadanos son los cascos urbanos
de las ciudades, en específico de Culiacán y Mazatlán.?En algunos distritos, hemos llevado
acabo una nueva convocatoria, como es el caso del 5, como es el caso del 6,
porque han renunciado algunos CAES que hemos ya contratado, las zonas más
problemáticas vienen siendo las zonas urbanas, de las colonias Guadalupe, Las
Quintas, en Culiacán, y la zona urbana de Mazatlán?, refirió.Además agregó que en cuestión de
seguridad no han tenido ningún inconveniente, pero están al pendiente de cada
uno de los capacitadores que recorren las calles.Cabe mencionar que el INE requiere de
por lo menos 33 mil ciudadanos que funjan como funcionarios en las más de 4 mil
casillas que se instalarán para las próximas elecciones de diputados federales,
a efectuarse el 7 de Junio.
    LM